薄膜沉積（如CVD/ALD）是半導(dǎo)體制造的核心工藝之一，需定期使用NF?清潔腔室以去除沉積物。精確控制清潔終點(diǎn)至關(guān)重要：
傳統(tǒng)方法依賴經(jīng)驗(yàn)時(shí)間控制，但實(shí)際最佳清潔時(shí)間受沉積厚度、溫度、壓力等因素影響，且參數(shù)可能漂移。因此，多數(shù)工藝會(huì)延長清潔時(shí)間以確保徹底清潔，但造成資源浪費(fèi)。
Johnson等（2004）提出通過監(jiān)測SiF?分壓確定清潔終點(diǎn)。紅外氣體傳感器因其高實(shí)時(shí)性和可靠性，已成為主流檢測手段。
NF?與沉積物反應(yīng)生成SiF?氣體，其分壓變化可反映清潔狀態(tài)：
四方儀器作為國際領(lǐng)先的紅外氣體傳感器制造商，針對薄膜沉積設(shè)備清潔終點(diǎn)檢測需求，推出SiF?、WF6紅外氣體傳感器。
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