在工業脫硝中，氨逃逸是指未反應的氨隨煙氣排放到大氣的現象。為滿足嚴格的氮氧化物排放標準，企業常采用“過量噴氨”策略，導致氨逃逸率上升。我國現行大氣氨排放標準有11個，限值范圍為8-30mg/m3。2024年1月，水泥和焦化行業超低排放意見發布，新增氨污染自動監測要求。若企業廢氣氨濃度超標，將面臨罰款、關停、約談等處罰。
固定污染源氨逃逸在線監測的核心難點源于氨自身的高水溶性、強吸附性與反應活性，以及復雜惡劣的煙氣環境（高溫、高濕、高粉塵、酸性氣體共存）。這導致在樣品采集與傳輸過程中極易發生氨溶解于冷凝水、吸附于管路部件、或與酸性氣體反應生成銨鹽而損失，造成測量值偏低和響應延遲。同時，環保法規要求的ppm級超低濃度測量需求，對分析技術的靈敏度、選擇性和抗干擾能力提出了極高挑戰。
四方光電（武漢）儀器有限公司（以下簡稱“四方儀器”）針對煙氣氨逃逸監測需求，基于先進的TDLAS氣體分析技術，開發了一套應用于SCR/SNCR脫硝工藝的在線監測解決方案。該方案能夠實時監測反應器出口和煙道排口的NH?濃度。憑借精準的監測數據，工作人員可以及時調整噴氨量，確保脫硝效率達到最佳水平，避免因噴氨過量導致的資源浪費和設備腐蝕問題，并保障煙氣達標排放，助力企業實現綠色生產與可持續發展。
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